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															金剛石薄膜的制備與應(yīng)用
															
            
								
            金剛石薄膜的制備與應(yīng)用
            
								
            
									
            
										
            交易信息：
            
										
            
																						
            完全轉(zhuǎn)讓-0.00 元
            
																					
            
									
            
									
            
										
            技術(shù)領(lǐng)域：
            
										
            
											
            先進(jìn)制造技術(shù)
            
											
            應(yīng)用領(lǐng)域：裝備制造
            
											
            最后更新時(shí)間：2022-07-28 15:46
            
										
            
									
            
									
            
										
            所在地：
            
										
            
											
            吉林省 長(zhǎng)春市 南關(guān)區(qū)
             
										
            
									
            
									
            
										
            所有者：
            
										
            
											
            管理員
             
										
            
									
            
									
            
										
            聯(lián)系方式：
            
										
            
											
            13756056562
             
										
            
									
            
								
            
							
            
						 
            
						 
						 
            
							 
            
								 
								 
            
									 
            
										 本項(xiàng)目主要利用微波化學(xué)氣相沉積或熱絲CVD的方法在不同襯底上生長(zhǎng)各類型金剛石薄膜（單晶、多晶及多孔金剛石）以滿足特殊超硬材料的機(jī)械加工和航空航天及微電子等領(lǐng)域?qū)﹃P(guān)鍵材料和技術(shù)的需求， 如金剛石電子器件、金剛石切削刀具、金剛石硬質(zhì)涂層、 金剛石窗口、電子器件散熱層等。									 
            
									 
            
										 

            技術(shù)特點(diǎn)(包含主要技術(shù)指標(biāo)）：
            

            本技術(shù)主要利用微波化學(xué)氣相沉積法在不同的襯底上生長(zhǎng)各種不同類型的金剛石薄膜，可應(yīng)用于金剛石高頻高能微電子機(jī)械系統(tǒng)、功能防護(hù)涂層和透明電極、金剛石基生物傳感器，IR、紫外以及X光的窗口，場(chǎng)發(fā)射器件，遠(yuǎn)紫外激光器的制備等等。在硬質(zhì)合金上生長(zhǎng)的金剛石膜與基體之間有良好的結(jié)合力，可應(yīng)用于輕金屬和碳材料的機(jī)械加工。此外，本技術(shù)工藝簡(jiǎn)單，成本低廉，適合于工業(yè)推廣和應(yīng)用。技術(shù)指標(biāo)包括：生長(zhǎng)面積：≤3英寸；沉積速率：<10mm/h；厚度：3～50微米； 硬度：50-100GPa。
            


            
									 
            
									 
            
										 阿薩德1111245